Servizi per aziende e centri di ricerca

Il Centro MIB-SOLAR contiene al suo interno le competenze e le strumentazioni per assistere le attività di enti privati e pubblici esterni nel campo dell'energia solare.

In particolare è possibile usufruire delle seguenti competenze presso il Centro:

  • progettazione, sintesi e caratterizzazione di materiali originali ed innovativi
  • preparazione di dispositivi fotovoltaici di piccole e medie dimensioni (celle fino a 1×1 cm2 e moduli fino a 20×20 cm2)
  • completa caratterizzazione di dispositivi fotovoltaici di produzione interna ed esterna (moduli fino a 20×20 cm2)

Il Centro tratta varie tipologie di materiali e dispositivi.

SERVIZI SPECIFICI PER AZIENDE ED ESTERNI

 

Caratterizzazione dei materiali

  • Misura dello spessore di campioni in forma di film tramite profilometro
  • Micro-Raman triplo eccitazione deep-UV (con assistenza)
  • Spettro di assorbimento di fotoanodi TiO2/colorante
  • Analisi di massa esatta con Dual ESI/TOF - infusione diretta
  • Separazione di miscele di molecole organiche tramite HPLC (fasi dirette e fasi inverse), detector UV-Vis e HRMS, con eventuale sviluppo metodo

Caratterizzazione dei dispositivi

  • Caratterizzazione I/V di celle solari e minimoduli (corrente, voltaggio, potenza massima, efficienza totale)
  • Misura di efficienza quantica esterna (EQE o IPCE). Risposta Spettrale
  • Misura di efficienza quantica interna (IQE o APCE). Risposta Spettrale
  • Spettroscopia di impedenza elettrochimica (EIS)
  • Analisi di anioni o cationi in soluzioni acquose tramite cromatografia ionica
  • Misure di attività fotocatalitica in fase liquida (con analisi prodotti tramite gas-cromatografo o cromatografo ionico)
  • Misure fotoelettrochimiche per water splitting (con analisi prodotti tramite gas-cromatografo o cromatografo ionico)

Preparazione di dispositivi o di loro componenti

  • Fabbricazione celle DSSC con area <0.20 cm2 per valutazione componenti (1 colorante + 1-5 elettroliti)
  • Logo DSSC su disegno personalizzato (12 loghi da 5×5 cm2)
  • Deposizione di TiO2 su vetri conduttivi di area 10×10 cm2 con disegno standard o personalizzato
  • Utilizzo laser scribing (ad esempio, per taglio laser di metalli o per rimozione TCO da vetro)
  • Coating per evaporazione di metalli (oro, alluminio, argento), escluso il costo del metallo, anche in glove-box
  • Deposizione di film sottili di ossidi conduttivi (AZO) e di molibdeno tramite sputtering fino a 10×10 cm2

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